地 址：大連保稅區海航路9號
大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy半導體濃度監測儀
大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy半導體濃度監測儀，德國總部直接采購，近30年進口工業品經驗,原裝產品,支持選型，為您提供一對一好的解決方案：貨期穩定，快速報價，價格優，設有8大辦事處提供相關售后服務。
公司簡介：
大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy 半導體濃度監測儀，
KxS Technologies 致力于先進、最現代的液體濃縮技術，幫助半導體、生物加工、食品、糖、化學品以及紙漿和造紙行業的廣泛客戶生產更多高質量的消費產品。
KxS 專注于在線濃度監測技術的開發，并不斷通過 DCM 過程折射儀取得突破，該折射儀設計堅固、體積小，可確保任何液體過程的可靠性和準確性。
主要型號：
DCM-10
芬蘭KxS Technologies Oy 半導體濃度監測儀產品介紹：
大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy 半導體濃度監測儀產品。
在整個晶圓廠分銷鏈中，當需要平衡半導體化學濃度測量的成本、速度和準確性時，原位折射率已成為行業標準。KxS 半導體DCM-10 晶圓廠化學監測器經過設計，可以：
定義進料清潔化學品濃度和原始 CMP 漿料密度。
實現并確保在銅、鎢和層間電介質平坦化應用中使用的膠體二氧化硅型 CMP 漿料中精確的 H2O2 濃度和 DI 水稀釋度。
將濃度測量結果與緩沖氧化物蝕刻（BOE）等工藝中的晶圓蝕刻速率（ER）關聯起來。
優化濕法帶鋼旋壓工具中蝕刻后殘留物消除劑（如 EKC265™）的使用壽命。
我們的半導體晶圓廠化學監測器適用于多種應用，包括：
SC-1 和 SC-2 的化學混合物校驗和
使用 NH3 水混合物進行硬掩模蝕刻
使用 50% KOH 進行硅濕法蝕刻
使用 H2SO4:HNO3:H3PO4 混合物蝕刻鈦
使用 HF:HNO3 混合溶液蝕刻背面聚合物
使用各種混合物進行 CMP 后清潔
我們的技術能夠監測各種關鍵的半導體化學品，包括但不限于：
*（H2O2）
氫氧化銨（NH3水）
稀氫氟酸（HF）
磷酸（H3PO4）
鹽酸（HCl）
*（NaOH）
硫酸（H2SO4）
N-甲基吡咯烷酮（NMP）
四甲基氫氧化銨 (TMAH)
異丙醇 (IPA)
氫氧化鉀（KOH）
硝酸（HNO3）
聚乙二醇 (PEG)
檸檬酸（C6H8O7）
乙酸（CH3COOH）
大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy 半導體濃度監測儀優勢特點
? 所有測量功能都集成在傳感器中——無需發射器
? 監測器適用于多種應用
? 測量輸出選項包括模擬和數字通信協議
? 可以通過傳感器的數字端口連接各種尺寸的外部顯示器。使用帶有網絡瀏覽器的計算機、平板電腦或手機訪問傳感器的診斷和設置。
大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy 半導體濃度監測儀主要應用：
大連力迪供應芬蘭KxS Technologies Oy 半導體濃度監測儀，利用 KxS Technologies 的先進解決方案和知識，在您的化學監測過程中體驗精度和效率。。
